2026年5月29日，德克萨斯大学奥斯汀分校科克雷尔工程学院的研究人员通过将极紫外 (EUV) 光刻系统简化为核心组件，开发出一种桌面式极紫外 (EUV) 光刻设备，生产出的设备比其他商业同类产品更模块化，成本也低得多。
相关研究成果以题为“Three-DimensionalNanopatterning Using Extreme Ultraviolet Colloidal Talbot Lithography”的论文发表在《纳米快报》上。
EUV光刻技术用于在硅基板上印刷电路以制造计算机芯片，但长期以来，这项技术仅限于全球少数几家制造商，商用机器的成本超过2亿美元，并且需要占用整个房间。科克雷尔团队的工作是美国国家科学基金会“半导体未来”（NSF FuSe2）计划下降低半导体研究成本的更广泛努力的一部分。
并行打印，而非顺序打印
这款桌面式设备与一种名为体三维图案化的技术相结合，旨在突破现有极紫外光刻工艺的根本限制。标准的商用系统通过逐层构建的方式来生产三维纳米结构，但这种顺序式方法会导致处理时间长达数天。
德克萨斯大学奥斯汀分校沃克机械工程系教授、张志豪（Chih-Hao Chang）说：“实际打印可能不会花费很长时间，但处理过程可能需要几天时间。”这项新技术可以同时曝光多层材料，将曝光时间缩短至几分钟。科克雷尔团队近期测试了一种由德克萨斯大学达拉斯分校和约翰·霍普金斯大学的研究伙伴开发的EUV兼容材料，这是他们为拓展该系统材料兼容性而持续开展的工作的一部分。
△(a) 用于实验纳米图案化的桌面高次谐波（HHG）基极紫外（EUV）源的示意图。 (b) EUV源的测量光谱，包含多个高次谐波。第27次谐波通过具有窄反射带的多层镜子进行选择。
目前，这项工艺仅限于周期性结构，因此最适用于存储芯片和光子学领域。长远目标是制造出速度更快、能够为更小的晶体管生成更复杂特征的系统，从而提高单芯片的计算能力。本研究的第一作者、近期获得博士学位的Saurav Mohanty说道：“除了半导体制造之外，3D纳米结构图案化能力还可以应用于纳米药物的医学、量子计算或合成新型材料等领域。”
来源：南极熊
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